Re: [新聞] 又被美國逼!ASML將不再維修大陸DUV 中
※ 引述《s213092921 (麥靠貝)》之銘言:
: http://i.imgur.com/iAZFy2w.jpg
: 注意是國產DUV且專門生產14奈米的成熟製程光刻機
工信部公布的那個曝光機,從他參數來看就知道是成熟製程
還是乾式曝光機
工信部的規格是這樣
https://i.imgur.com/gRVsr0U.png
跟ASML的1460K對一下規格就知道
https://www.asml.com/en/products/duv-lithography-systems/twinscan-xt1460k
The TWINSCAN XT:1460K 193 nm step-and-scan system is a high-productivity,
dual-stage ArF lithography tool designed for volume 300 mm wafer production
at 65 nm resolution. The TWINSCAN XT:1460K contains a variable 0.93 NA 193 nmprojection lens with advanced lens manipulators.
improvements, the TWINSCAN XT:1460K can achieve a dedicated chuck overlay of
<= 3.5 nm and a matched machine overlay of <= 5 nm with the TOP XT:1460K
package installed.
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工信部那台規格大概就是比1460k還要差一點,1460K是2005年的設備了
這設備明顯就是以成熟製程為主要目標
製造商有人說是中國電子科技集團,這家去年還今年的確有發表曝光機
今年大陸的大基金投資方向己經轉向要大量建廠了,工信部公布這個
八成是要蓋成熟製程產線的多買國產設備
不過有一個地方要注意,大陸的國產濕式DUV很有可能真的做出來了
中國記憶體廠 2024 年投資年增逾 90%,要突破 Chip 4 聯盟限制
https://pse.is/6fb848
長江存儲也將投入 30 億美元投資擴產,比前一年增加一倍以上。
長江存儲預計將以武漢二廠為中心進行擴產,確保 NAND Flash 快閃記憶
體的產能達到每月 13 萬片的規模
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長存被美國制裁後原本的二廠都停擺了,現在投30億美元擴產,除了買國產設備
沒有其他可能
NAND相較邏輯晶片比較不需要微縮下去,不用太依賴先進製程
(詳細請看 https://www.synnex-grp.com/component/tech_paper_42.html )
只有蝕刻機比較重要
去年長存己經用國產蝕刻機生產出232層NAND了
https://moptt.tw/p/Gossiping.M.1696914656.A.662
所以蝕刻機己經不是問題了,那就只有曝光機和其他設備了
現在投資擴產很有可能是全部都解決了
--
人家用國家之力打造 又不是營利公司
在台灣討論會用"光刻機"的99.99%文組或是
在學就業跟電子業半導體完全無關的大外行
理工,這種人寫出來的文百分之一百是廢文,
這種垃圾內容不用浪費生命回應
光刻機 光刻機 光刻機 然後呢?
不是說中國半導體都倒光了 說詞該統一吧
不然要說Kscan嗎
這篇寫得不錯啊,支警有什麼高見嗎?
光刻機就是支語!討厭支語就不要用光刻機!
曝光機用了10幾年 改講光刻機好不習慣
中國自己造的設備,只能說是堪用,跟精
品掛不上任何關係,連SMT這種超級成熟
的產業的中國設備真的只是便宜,但真的
很爛….還不耐用,懂得都懂
人家有NMSL 哪有差你這種
,中國在28nm完全國產不怕歐美制裁了
樓上臉被打腫還想吹落後製程.....
哪裡被打臉,另外28nm雖然落後但大多
晶片用途還是28以上
說你被打臉就是被打臉 怎麼打不知道
加油
連套刻在大陸是什麼意思都不知道就別吹
了,很難看的
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機器都留在那裏,大不了自己拆解、逆向工程研究,自己修就好了 久了也可以發展出技術 沒有把機台收回就是大失策,這樣制裁根本不可能成功 以後機台也要改成訂閱制,時間到就把機台收回 否則只是留下完整的機器讓人家研究而已X
怎麼可能有遠端鎖 如果有我才不插網路線咧,沒網路線最好ASML有辦法遠端關機啦 神喔 真的一堆沒概念的人在那邊幻想,比寶傑還厲害。 除非客戶很笨乖乖地連線等著人家來遠端關機。 有那麼笨的嗎?13
欸不是 美國這樣搞真的沒有問題嗎? 有句話叫禍福相依 美國這樣逼中國到底 不怕中國真的做出光刻機嗎 作用力與反作用力是相等的 以前用買的就好 現在拼死也要搞研發6
2024/9/14 節錄: 《目錄》顯示,DUV光刻機為8nm以下過程,193nm的光源波長, 可精細雕琢出小於65nm的圖案。業內人士指出,DUV光刻機的6
9月11日中國工信部官方宣導推廣中國企業使用國產DUV 注意是國產DUV且專門生產14奈米的成熟製程光刻機 至於7nm以下的高階DUV光刻機,還沒有正式公開,目前還是鴨子划水低調運作,這部分成本可能較進口高一點,即使被制裁也能用國產替代,只是就成本貴了一點,但不至於完全斷炊 最後大家念茲在茲的EUV光刻機,去年2023年3月9日申請專利,今年9月10日已經申請公開專利了
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[情報] 震撼南韓業界!美光記憶體製造技術領先三星與 SK 海力士震撼南韓業界!美光記憶體製造技術領先三星與 SK 海力士 作者 Atkinson | 發布日期 2021 年 06 月 07 日 16:40 美光執行長 Sanjay Mehrotra 於 2 日在 Computex 2021 論壇主題演講宣布,正式 量產 1α 製程 LPDDR4x DRAM,並正向 AMD 和 Acer 供應 1α 製程 DRAM,還宣布開 始量產 176 層堆疊 NAND Flash 快閃記憶體,震撼 DRAM 市佔率領先全球的南韓業界。1
Re: [新聞]美國專家建議:台灣「自毀半導體」戰略價假若大陸完全接管臺積電的設備和人才 臺積電的先進製程可以繼續維持2~3年時間 然後 就會被三星或英特爾超越 原因很簡單,臺積電完全依賴於ASML的曝光機(光刻機)還有日本的光刻膠等等。曝光機 是一直在技術演進的,屆時美國不會讓ASML輸出更先進的曝光機給大陸控制下的臺積電, 臺積電的製程當然會慢慢被三星,英特爾超越。臺積電現有的先進光刻膠如果存貨不多,
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