[情報] 挑戰ASML!佳能壓印機NIL可攻2奈米、價
挑戰ASML!佳能壓印機NIL可攻2奈米、價格僅EUV的10%
2023/12/30 06:46
〔編譯魏國金/台北報導〕瑞典媒體Gamingdeputy 27日報導,日本半導體設備巨頭佳能(Canon)十月推出的奈米壓印裝置(NIL)FPA-1200NZ2C不僅可生產2奈米製程晶片,其耗電量與價格皆為對手艾司摩爾(ASML)深紫外光機(EUV)的十分之一,為小型半導體製造商開啟生產先進晶片的新途徑。
佳能半導體機器事業部長岩本和德(Kazunori Iwamoto)指出,奈米壓印是將光罩上的半導體電路圖壓印在晶圓上,只要一次壓印,就能在適當位置形成複雜的2D或3D電路圖,因此只要持續改進光罩,甚至能生產2奈米晶片。
報導說,佳能的奈米壓印技術可生產至少5奈米製程晶片。先進半導體設備市場目前由艾司摩爾主導,佳能的技術將持續縮小與艾司摩爾的差距。
對於設備成本,岩本和德估計,單次壓印的成本可低至傳統曝光設備的一半。佳能執行長御手洗富士夫(Mitarai Fujio)則表示,奈米壓印的產品價格比艾司摩爾的EUV 將減少一位數,亦即前者為後者十分之一。
報導說,有別於以光學圖像投影原理來運作EUV,佳能開發的奈米壓印技術是將電路圖直接印在晶圓上,製造出的晶片據稱擁有可媲美最先進節點的幾何圖形,不過壓印速度較EUV慢。
該新設備預計可讓晶片製造商降低對晶片代工廠的依賴,同時讓台積電、三星電子等晶片代工廠更可能大量生產晶片。佳能表示,該設備需要的功率僅為EUV的十分之一。
佳能之前聚焦於生產普通晶片,2014年起開始大力投資壓印技術,並收購專門開發奈米壓印技術的Molecular Imprints公司。岩本和德說,佳能已收到大量半導體製造商、大學、研究機構的詢問,他們估計該技術可作為EUV的替代裝置,並可為個人電腦與邏輯IC生產快閃記憶體、DRAM等各種半導體。
https://ec.ltn.com.tw/article/breakingnews/4536163
Nikon和Canon以前確實有在製造曝光機啦,但先進製程就變成ASML的天下了
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壓印NAND真香
這主要是產DDR的吧
壓印能到5nm、2nm感覺都是隨他講,
這無所謂,比較奇怪的是壓印為什麼
還要 1/10 EUV 的耗電?
美國拔拔又要氣噗噗的了
N/K 現在還是有繼續生產曝光機 只是沒
用在重要的製程
良率跟量產化不知道如何
人家要的是良率啊,沒有驗證過的,誰敢
用
還是習慣光刻
不敢提良率就知道有問題了
良率大概也是1/10
這之前有提過呀,壓印因為是接觸式,轉
印板損耗高,合算起來成本沒太多優勢,
跟該公司印表機同一概念
問題是誰敢當白老鼠啊
艾斯摩爾是跟台積電高度技術綁定,台積
電生產上的資訊會反饋回去作為下一代機
台的設計
壓印能不能做GAA也沒說,生產效能跟良率
也模糊不清,驗證完正式生產大概也就比
傳統的便宜2成吧,可以當小規模的替代方
案
甚至?那就是根本還沒辦法
甚至? 後面自己想辦法?
做為驗證或是工程用的應該還可以吧
我ok你先用
然後先不說良率,這產能就很低了
中國會買
好猛 以為只有做相機
價格1/10,耐用度也是1/10
技術預估2025商用這主要是跟鎧俠合作
沒用產太慢
想一下印表機的速度就知道
產能比ASML慢是確定了,良率還輸就下去吧
印刷大國 什麼都用印的
日本廠商也會遵守美國禁令吧
吹很久了
壓印光罩與晶圓上的比例是1:1?,那光罩慢
慢等吧
i皇仍在使用nikon的曝光機呀,這個目
標是吃記憶體市場,畢竟未來都是堆幾
百層,用印的比較便利
尼康在圈內的評價好像不是很好
Canon印表機是加熱氣泡再噴出的吧,不是
靜電式的那種印表機。我印故我在?
佳能重返戰場!?
打樣用印的不錯
管它啥技術有良率高又便宜的產品讓我們
消費者買就好(・∀・)
真有這麼神大概就要廣場協議2.0了
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