[問卦] 華為公開2nm新技術專利 不使用EUV
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推
好像說石刻^n就能達到
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祖國被封殺之下走出活路了 又要贏了
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都手搓5奈米了,沒啥好意外
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老獅的手刻打磨

噓
手搓2奈米
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良率出來再講
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好喔
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本來就不只一條路
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但是還要時間啦 應該沒那麼快

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不成熟的技術 買的人賣的人都是北七

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那個技術好像日本有用過,但,後來放棄
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了,好像是什麼轉印的技術
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曝光這麼多次就是成本和良率的問題
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台積要被追上了 青鳥唯一的驕傲快沒了
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中國最厲害的就是卷 擔心成本良率幹嘛阿
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overlay很難維持那麼好啦 而且Lens在一直
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曝光下霧化程度會很難掌握 能調整的有限
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不行就只能直接換 但換大塊Lens成本又不低
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而且除非像ASML模組化 不然換>調機要很久
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多重曝光拿來申請專利?
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放個xjp的照片,就知道是xjp
噓
四重曝光, 我OK你加油
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老師傅手刻
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強國就是強,快點量產出來讓全世界嚇
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死嘛
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芒刻嗎?
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gg註定丸子 各國崛起分一杯羹
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沒尼奮島那些肝真不知怎贏
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良率?
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他想寫2埃都沒問題,紫光也這麼幹過
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問題是喊爽的,根本沒技術打造機器
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消費性產品中國能夠很強,但高精密
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就是沒辦法,而且中國環境沒研發 研發
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走的全是軍工與軍國集中投入
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不可能長久 華為就是解放軍通訊部轉型
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意思是党中央搖旗他就得吶喊 很智障
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他們爽就好
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先量產
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涼率不錯
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一堆講良率的,是忘了美國要的是什
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麼…
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聽說對岸重複曝光能到4奈米 但良率??
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手刻芯片
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來自老師傅50年經驗 別具匠心
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多重曝光慢慢刻就行 沒什麼
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祖國超捲捲到能自主開發
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手刻2奈米
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華為有需要公布財報嗎?良率不是問題產
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量才是問題
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要講良率的話為何要國造潛艦不買現成的
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?
推
贏麻了
噓
你妹的八重曝光產能良率成本都吃屎
爆
[標的] ASML 中國的EUV可能是真的根據X上的小道消息指採用LDP技術的EUV最近在華為東莞工廠預計2025 Q3進行測試,並預期 2026進行量產計畫: 有趣的是這則貼文被現任台積電&IBM Research轉發![[標的] ASML 中國的EUV可能是真的 [標的] ASML 中國的EUV可能是真的](https://i.imgur.com/mGiqPeEb.jpeg)
爆
[情報] Intel 18A已準備就緒,官方宣稱領先台積拭目以待。 Intel 18A已準備就緒,官方宣稱領先台積電一年? 能效提升15%,密度提升30% 根據英特爾官網資料,相較於Intel 3製程節點,Intel 18A每瓦效能提升15%,晶片密度![[情報] Intel 18A已準備就緒,官方宣稱領先台積 [情報] Intel 18A已準備就緒,官方宣稱領先台積](https://cdn2.techbang.com/system/excerpt_images/121612/original/fbe99afe2379839566f8776f219f5704.jpg?1740472553)
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Re: [標的] ASML 中國的EUV可能是真的很多地方都已經披露,事後證明,這個中國做出EUV的消息是假的。 但是股板的資訊似乎還沒有更新,所以來給大家說明一下這個中國EUV消息的後續。 : 根據X上的小道消息指採用LDP技術的EUV最近在華為東莞工廠預計2025 Q3進行測試,並預期 : 2026進行量產計畫: :![Re: [標的] ASML 中國的EUV可能是真的 Re: [標的] ASML 中國的EUV可能是真的](https://i.imgur.com/lDO9p5eb.jpg)
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Re: [新聞] ASML強敵來了!陸「EUV關鍵技術」大突破發表一些自己的看法,給大家批判。 先說我自己的結論: 中國在科研領域確實有一些成果,但和ASML的差距仍然是非常的巨大。 ASML的CEO之前說『和西方的差距有10-15年』其實並不誇張。[1] 首先哈工大並沒有像ASML一樣,完全地掌握EUV光源技術,![Re: [新聞] ASML強敵來了!陸「EUV關鍵技術」大突破 Re: [新聞] ASML強敵來了!陸「EUV關鍵技術」大突破](https://img.technews.tw/wp-content/uploads/2024/11/15090819/ASML_Cleanroom_Assembly_April2019_38.jpg)
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[討論] 華為 EUV光刻機 新專利 突破目前科技極限華為申請EUV設備專利,中國半導體提供應鏈夢想"完全獨立"。 簡而言之,華為已經找到方法繞過美國傳統 EUV 專利, 並可達到比現有科技尺寸大十倍的地步![[討論] 華為 EUV光刻機 新專利 突破目前科技極限 [討論] 華為 EUV光刻機 新專利 突破目前科技極限](https://img.youtube.com/vi/EHMJAh0_RyE/mqdefault.jpg)
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Re: [新聞] 美日合作2奈米與小晶片技術,對台積電是IBM :2015 公佈7nm使用SiGe channel. tsmc 2017量產7nm,隔年7nm+ 使用EUV GF使用IBM技術,但2018 放棄7nm開發. 三星量產7nm 號稱使用EUV,結果良率比台積還差 接著 IBM : 2017 公佈5nm, tsmc 2020量產5nm 使用大量EUV及high-mobility channel 同年,三星號稱量產5nm, 實際被驗證假7nm, 且性能不如台積6nm. 公佈2021量產3nm GAA7
Re: [問卦] 華為會不會做出光刻機這件事我前幾天講過, 在美國2018年前後開始遊說荷蘭不賣大陸 Euv光刻機後,大陸就開始加速EUV研發了, 原本只有一家研究所在研究EUV,之後大陸 就組織了數個研究所/大學/企業研發EUV,![Re: [問卦] 華為會不會做出光刻機 Re: [問卦] 華為會不會做出光刻機](https://i.imgur.com/EOlgnkxb.jpg)
![Re: [問卦] 華為公開2nm新技術專利 不使用EUV Re: [問卦] 華為公開2nm新技術專利 不使用EUV](https://img.youtube.com/vi/5I3BovCUNNo/mqdefault.jpg)