Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大突破
※ 引述《scitamehtam (新竹恐牙狼)》之銘言：
: ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大突破 下一步國產曝光機？
: https://www.chinatimes.com/realtimenews/20250118000073-260410
: 哈爾濱工業大學（哈工大）近日宣布，已成功研發出13.5奈米極紫外光（EUV）光源技術: ，打破此領域由美國企業壟斷的局面，也為大陸的國產EUV曝光機製造點亮了一線曙光。: 此消息一出，對於掌握EUV曝光機主導地位的ASML（艾司摩爾）來說始料未及，該公司先: 前曾強調，EUV機台的開發仰賴超過40個國家、數百家供應商技術的匯集。
發表一些自己的看法，給大家批判。
先說我自己的結論：
中國在科研領域確實有一些成果，但和ASML的差距仍然是非常的巨大。
ASML的CEO之前說『和西方的差距有10-15年』其實並不誇張。[1]
首先哈工大並沒有像ASML一樣，完全地掌握EUV光源技術，
這個甚至很多中國的自媒體都有提到。
EUV的光源系統有多條技術路線：
1. 同步輻射
2. FEL
3. LPP
4. DPP
5. LDP
其中LPP和DPP是比較有商用可能性的，目前ASML的EUV光源系統採用的LPP技術路線，
而哈工大取的進展的是ASML曾經捨棄的DPP路線，
而且這僅僅是在DPP的研究上取得一些成果，距離可以商用，並且用於量產，
可能還需要很長的一段時間。
所以我們才說哈工大並沒有完全地掌握EUV光源技術。
那中國要掌握EUV光源技術大概需要多久呢？
我們可以參考過去技術突破的一些案例。
比方說幾週前大日本印刷DNP有技術突破，開發出給High-NA EUV用的1奈米光罩[2]，
但同時也提到預計在2027年才能用於2奈米的量產，並在2030年才能用於1奈米的量產。
又比方說在2023年底，佳能開發出號稱可以用於2奈米壓印(NIL)設備，
但目前僅鍇俠用於15奈米的NAND快閃記憶體製造上，
並且計劃在2025年用於5奈米的NAND快閃記憶體製造， [3]
並沒有提到NIL什麼時候可以用在2奈米的量產。
所以一個技術的突破，到可以商用量產，花個3-5年，那是很正常的。
更何況哈工大取的進展的是ASML曾經捨棄的DPP技術路線，
還不是目前正在用的LPP技術路線。
如果中國能花5年追上ASML目前的EUV光源技術，那已經是很了不起的成就了。
但那也僅僅是突破光源技術而已......
EUV曝光機有5000+個供應商，數10萬個零部件，光源技術僅僅是EUV的核心零件之一。
EUV曝光機的核心零件包含但不限於：
光源系統：美國Cymer，日本Gigaphoton
鏡頭：德國蔡司
光罩：美國Photronics，日本DNP
雙工作台：日本東京威力科創
真空儀器儀表：美國BrooksAutomation
離子注入機套件：美國AxcelisTechnologies
…等等
台灣的漢微科和信邦電子也都有提供零部件給ASML。
而這些提供零部件給ASML的公司，很多都是該領域的一方之霸。
所以人們才說EUV曝光機是皇冠上的珍珠，是人類智慧的結晶，
很難由一個國家單獨製造出來。
當然，這5000+個供應商，中國未必全部都要攻克，
也許有些零件不在制裁清單上面，用買的也可以。
如果中國在5-10年內做出一台EUV的樣機，
我並不會感到太訝異(但從樣機到可以量產，可能還要再花個3-5年)
因為尼康就曾在2007-2008年左右就做出EUV的樣機， [4]
只因研發成本昂貴，又無法在商業上取的進展，最終放棄了EUV的開發。
我的結論是，中國在科研領域確實有一些成果，但和ASML的差距仍然是非常的巨大。
ASML的CEO之前說『和西方的差距有10-15年』其實並不誇張。[1]
如果中國有無限的資金，花個10-15年趕上現在的ASML，也許真有可能。
Reference:
[1] https://reurl.cc/5DEV8z
[2] https://reurl.cc/M6G9Rk
[3] https://biglegsrabbit.blogspot.com/2025/01/nil.html
[4] https://www.163.com/dy/article/HVFS9PFI0553OSM3.html
--
可是我記得前幾年網路上都在吹2025超越歐美耶
砸$也許有機會 但成本高昂 商用恐怕無人買單
日本供應零件居然有那麼多
中吹可不是這樣想喔
日本還是關鍵材料劑的供應商
趕上「現在的」 也只是「有可能」
中吹疑美:日本半導體業被美廢掉
我記得前兩年是給張圖紙設計圖，中國都做不出來耶
現在都能出口白菜價光刻機，歐美半導體強一點好嗎？
領先個50年好嗎，不然門檻太低很容易跨越啊
你肯定是這討論串中最瞭解 EUV 的專家
感謝詳細解說
同意
專業
中國目前策略 穩定7奈米良率 尋求開發設備
是指15年後追到2025年的水準嗎?
問就是華為買單 讚讚讚 快蓋一百座
這篇才是理性討論
好像很專業
還附上出處 請收下我的膝蓋
專業 給推
推專業
專業推
推
Intel 這樣敗也是花了好幾年才變成這樣…要超車真
的要花時間
Zen1 都是十年前發表的東西了
追趕先行者本來就是數十年累積的事
實力差距確實存在一定距離，但如果零件基本上都是大
陸出廠，外地組裝設定再銷售給大陸台灣，那是不是大
陸COPY 能力再度顯現，那天突破精進再慢慢追上這可
能發生？例如電池？
推
看不懂只好推了
中國最大的塞子-小學生，不先幹掉是沒有希望的
問題就是對手也會進步 在不能偷的情況下 差距只會越
拉越大
專業給推，實際上應該也是如此，尖端科技並不存在
彎道超車，就算舉全國之力狠砸錢也不是一兩年就能
超越的事
笑死，這篇太中肯完全看不到中吹，可能在跟統戰部
要文案吧。
現在是拼的是 歐美日台分工合作vs中國自行研抄襲
看哪一個集團進步速度會比較快
人口其實不是科研進步最大重點 就算要比歐美日加起
來人也夠多了，還有印度人才庫呢
這篇文章也點出大家常問到的，為何荷蘭商要聽美國
的
但這些內容在晶片戰爭都有啊，我以為討論gg看完晶
片戰爭是基本操作
論文大師這篇沒辦法噴或吹某些國，只好去上面那篇
下面
37
其實投資股票,是個相當純粹『比較利益法則』的事情 在心態上更需要如此 這間公司股價會上,無論我主觀上多討厭他都要買 這間公司會下,無論我主觀上多喜歡他,都要趕快賣 所以,當接觸到一個挺大挺轉折的訊息,該做的事情![Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大突破](https://i.imgur.com/sj1aQidb.jpeg "Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大突破")
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哈工大，東北仔 中國常識：投資不過山海關 東北全部都是詐騙集團 共產黨老幹部老油條卡油地 從上到下都在騙，都在坑2
如果預期10年追上，那大概現實中會是5-8年 假設GG還有5年維持市場領先，一年成長30%，現在1100元 五年後就是4084元，還可以賺3倍 到那時候就要小心突然崩盤，變成intel走勢， 困難的是5年的時候，就要很小心突然哪一天就公布西台灣追上了12
同樣都是未經證實的新聞 26取得EUV關鍵技術 跟 Rapidus突然能接2奈米製程的單 明顯是後者比較豪洨吧= =？5
中國發展半導體製造的成熟製程還有可能。 先進製程，幾乎是全世界半導體相關技術、原料及設備最先進的許多家公司共同合作發展而來。 光美國禁止幾家非中國公司的原料或設備進口中國，中國的先進製程就很難發展成功。 騙中國政府半導體補助的公司，這麼多年來，倒是有一堆…… --15
以中國目前砸錢的進度， 先進製程突破是早晚的事情， 拿當年GG DUV到EUV的時間， 考慮中國人耐操聰明（智商全球第一對吧？）勤奮， 等於是GG十萬肝的10倍耐操程度，所以快則2-5年內就有機會吧？17
首先 中國最後肯定做得出EUV光刻機 只是是多少年後？到時候歐美台日韓的先進製程還 會停留在EUV？ 美國現在對中國封禁EUV 不外乎就是要 1.提高中國研發EUV以及後續「目前」先進製程的 成本 2.盡可能延遲中國研發成功的時間 講完了美國的戰略 現在我想問的是 這則報導的來源出處 去查一下不外乎都是中媒報導![Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大突破](https://i.imgur.com/eSnHMpSb.jpeg "Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大突破")
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我回我自己 經過一番查證 大概知道媒體的來源是這個 放電等離子極外光刻光源![Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大突破](https://i.imgur.com/1TdkZeqb.jpeg "Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大突破")
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新聞所寫的用粒子加速產生紫光，上面影片有對岸博主解釋了，不過下面留言清一色都在吐槽打臉博主 哈哈 這方面我外行不予評論 另外這週的新聞哈工大團隊確實有獲得科研獎項，但具體內容是什麼就不得而知了。![Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大突破](https://i.imgur.com/FIEsXHfb.jpeg "Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大突破")
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一直吹大陸的晶圓製造感覺呵呵 美國的科技戰想要的是什麼？為什麼要斷中國的技術 然到不知道中國自己也有機會做嗎？ 因為晶圓戰爭就是以前的太空戰翻版 把蘇聯搞垮的太空計劃![Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大突破](https://s.newtalk.tw/album/news/952/6778bfb576fd5.jpg "Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大突破")
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Re: [爆卦] 中國清大EUV大突破？？！！大陸清大那個團隊不是第一個想到這玩法的 這想法很久以前就有人想過 例如國科會底下的未來科技館 技術簡介![Re: [爆卦] 中國清大EUV大突破？？！！](https://i.imgur.com/SF9WbFjb.png "Re: [爆卦] 中國清大EUV大突破？？！！")
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Re: [爆卦] 中國清大EUV大突破？？！！你沒看明白，所以我再解釋一下。 1、清華的這個方案，因爲使用 同步輻射光源+電磁場偏轉，所以直接能得到各種波長的高 功率光源，不需要asml技術的大量透鏡組合。 所以你説的別墅大小的鏡片，本來就是不存在的。 另外，因爲減少了鏡片折射之間的能量損耗，所以功率本身就在asml幾十倍的同步輻射光源28
[情報] 挑戰ASML！佳能壓印機NIL可攻2奈米、價挑戰ASML！佳能壓印機NIL可攻2奈米、價格僅EUV的10％ 2023/12/30 06:46 〔編譯魏國金／台北報導〕瑞典媒體Gamingdeputy 27日報導，日本半導體設備巨頭佳能（Canon）十月推出的奈米壓印裝置（NIL）FPA-1200NZ2C不僅可生產2奈米製程晶片，其耗電量與價格皆為對手艾司摩爾（ASML）深紫外光機（EUV）的十分之一，為小型半導體製造商開啟生產先進晶片的新途徑。 佳能半導體機器事業部長岩本和德（Kazunori Iwamoto）指出，奈米壓印是將光罩上的半導體電路圖壓印在晶圓上，只要一次壓印，就能在適當位置形成複雜的2D或3D電路圖，因此只要持續改進光罩，甚至能生產2奈米晶片。 報導說，佳能的奈米壓印技術可生產至少5奈米製程晶片。先進半導體設備市場目前由艾司摩爾主導，佳能的技術將持續縮小與艾司摩爾的差距。![[情報] 挑戰ASML！佳能壓印機NIL可攻2奈米、價](https://img.ltn.com.tw/Upload/business/page/800/2023/12/29/4536163_1.jpg "[情報] 挑戰ASML！佳能壓印機NIL可攻2奈米、價")
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Re: [問卦] 中國有無可能自製 EUV??EUV這個東西肯定不是一兩年能做出來的。 不過還好，大陸做這個也不是一兩年了。 根據公開信息看，十幾年前就開始了EUV光源 等子系統研發了，而且是至少三種可能得技術 路線同時在多個研究所進行研究。公開資料里
![Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大](https://i.imgur.com/EJ4DCejb.jpeg "Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大")
![Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大](https://i.imgur.com/ZGzxwgNb.jpg "Re: [新聞] ASML強敵來了！陸「EUV關鍵技術」大")
![[請益] 「SPIL矽品」趁這波“黃仁勳熱”重新IPO?](https://pgw.udn.com.tw/gw/photo.php?u=https://uc.udn.com.tw/photo/2025/01/16/realtime/31298147.jpg&s=Y&x=88&y=248&sw=1291&sh=861&exp=3600 "[請益] 「SPIL矽品」趁這波“黃仁勳熱”重新IPO?")
![Re: [請益] 怎麼想都覺得買債券eft不通？](https://hackmd.io/images/media/HackMD-neo-og.jpg "Re: [請益] 怎麼想都覺得買債券eft不通？")