Re: [新聞] 中國實現國產DUV曝光機 可生產8奈米及以
標題就錯了
規格寫套刻overlay 8nm
其實是14-28nm製程的水準
肯定說不上先進
但是至少不是完全沒有
至於EUV就再看看
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※ PTT留言評論
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 114.136.9.17 (臺灣)
※ PTT 網址
※ 編輯: cutbear123 (114.136.9.17 臺灣), 09/15/2024 02:38:51
推
終於有人發現了 吐槽對點了
→
廠商騙補助經費用的
推
還有如果我是說真的如果 整機都完成
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用得著工信部推廣嗎?早不知道潮吹到那
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另外五毛這次吹要超趕ASML過份了點
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其實對業界太不了解 成熟製程曝光機
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其實有三家可選 ASML、Nikon、Canon
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要吹之前先把Nikon Canon市場佔了好嗎
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真的做出好東西氣氛會像黑神話這樣
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主要用14-28nm製程
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不過這也只是他們工信部9月9號資訊
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量產機在哪 上線良率 都不知道勒
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因為4中国農場製作出來の底稿啊 在砸悶
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中国就鼠超仙境製程 古時候百萬人中偶
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爾才有1位米雕濕敷能辦到
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中國連製程都可以超頻,手工製作硬超250%!
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反正怎麼吹,也就是出張嘴
1
1. 糟糕了 DUV如果可以生產8奈米的 幾乎就滿足九成的需要了 ASML會哭死 2. 文中說要繼續開發EUV這根本就天方夜譚了 如果EUV被匪諜開發出來,台灣馬上完蛋我不騙你 絕對被匪區的同胞捲死 看看我們的台塑四寶現在被捲得不成人形了19
美國爸比對中國制裁真的有必要 不然想想看華為那台3折手機 唯一的敗筆就是搭爛晶片 被美國制裁下都能搞出這麼頂的手機了 要是搭目前最頂的晶片會多恐怖10
1.支那說作出DUV已經很多次了, 到底那次是真的能用. 2.就算現在支那手持ASML光刻機也作不出台G水準的良率, 因為光一些日本作的耗材像光刻膠他們也搞不出來. (話說材料科學這種半玄學的科學也只有日本人適合搞, 因為周期長且回報極不平均.) 3.支那離三星和英特爾還遠的很, 光接近們就夠嗆.
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[情報] ASML 交貨英特爾首套 High-NA EUV 曝光機ASML 交貨英特爾首套 High-NA EUV 曝光機,總價逾 3 億美元 曝光機大廠 ASML 21 日宣布,已運送業界首套數值孔徑為 0.55(High-NA)極紫外線 (EUV)曝光機給英特爾。英特爾之前表示,首套 High-NA EUV 曝光機將用於學習如 何生產 Intel 18A 先進製程,有望使英特爾領先對手台積電和三星。 ASML 發言人表示,已出貨第一套 High-NA EUV 曝光機給英特爾。如 9 月宣布,機器9
Re: [新聞] 又被美國逼!ASML將不再維修大陸DUV 中工信部公布的那個曝光機,從他參數來看就知道是成熟製程 還是乾式曝光機 工信部的規格是這樣 2.1.6的規格比較好,裡面的套刻是指overlay,不是能做到什麼等級的製程4
Re: [討論] 華為新手機mate 60 pro水準如何?我覺得中芯國際用duv 曝光機的極限就是7奈米了。 大概就是台積電第一代7奈米的水準吧! 這種水準現在還要賣30000元台幣,這不合理。 只是讓華為續命而已,海思設計能力也沒增加,還是只停留在5奈米。 我猜也不是用中國的EDA ,只是之前買的EDA 繼續用而已。本來就可以設計到5奈米。X
Re: [新聞] 彭博權威拆解證實 華為新手機晶片是中芯大家是否還記得去年的這篇新聞? 需求不振?台積關四台EUV 設備業曝內幕 台積電可以關掉四台EUV曝光機(光刻機),但中國大陸卻完全買不到荷蘭ASML的EUV曝光 機,只能用DUV曝光機,還是DUV曝光機中的低階版本,來造華為的麒麟晶片。真得好慘。
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