Re: [討論] 台灣是不是變成世界半導體遺址 ？！

聽你在吹!

還五奈米呢!連28奈米都做不出來，別在那幻想了好嘛!

2024年9月份中共工信部發布了《首台（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版

）》，其中一台光刻機的參數是：採用波長為193nm、套刻精度低於8nm的氟化氬（ArF）

光源，可在12英寸晶圓上實現65nm的分辨率。

65nm的分辨率，那麼單次曝光能夠達到的工藝製程節點大概就在65nm左右。套刻精度則

指的是每一層光刻層之間的對準精度。這個65nm的光刻分辨率、套刻精度nm，最多能夠

做到55nm製程。大概相當於荷蘭ASML（阿斯麥）公司18年前（2006年）推出的XT:1450

的水平。仍並未達到可以生產28奈米芯片的程度，更達不到製造什麼8奈米、7奈米芯片

的程度，很多網友把套刻精度跟光刻製造製程節點水平搞混了。

人家華威的七奈米使用的是ASML老舊的DUV曝光機，多次曝光才取得的，良率低的可憐，而中

國自製的曝光機最多只有55nm製程。是ASML（阿斯麥）公司18年前的水準，連28奈米都做

不出來，還肖想五奈米，真是吹牛吹到家了!

※ 引述《Manzini (Manzini)》之銘言：
: 之前台派說香港是世界金融中心遺跡
: 現在想起來
: 接下來高階製成前往美國
: 日本也要做二奈米
: 然後中國這幾年也要用自己的光刻機做出五奈米
: 怎麼感覺台灣跟香港比起來香港沒有比較慘？
: 至少中國的龍頭企業都還必須在香港上市
: 台灣會不會變成世界半導體遺址？
: 20年後台灣國小學童再念歷史課本
: 會唸到一段
: 台灣曾經壟斷半導體高階製程

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