Re: [新聞] 中國實現國產DUV曝光機 可生產8奈米
晶圓直徑300mm,照明波長248nm,分辨率≦65nm,套刻≦8nm
這是國際主流20-15年前的水準
勉強摸得到28nm製程水準
給各位點參考
套刻nm數乘以三大概就是能做到的極限
但28nm以上的製程是嚴重過剩
要用這個對抗台韓早就折舊玩的產線喔
中國政府還拿得出大量資金搞補貼嗎?
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※ PTT留言評論
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就跟之前人工磨5奈米一樣,現在不得不用
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一些關鍵字來安撫一些傻子
推
想辦法欺騙官方補助單位就好,搞不好官
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方那些人看不懂
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中國晶圓廠也不傻 不會買這種垃圾
推
工信部有寫照明波長193nm的
推
對岸的目錄其實有兩台 一台是KrF乾式曝
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光機248nm 一台是ArF浸潤式曝光機193nm
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重點不是折舊完,重點是人家可以海光刻機 也就是如果維護成本比人家貴,那還是有可能被捲死的 假設是真的,那未來 28nm 這個節點 ASML 市佔率就會大幅下降 而且隔壁國的訂單應該已經在路上(說不定裝機都裝好了) 這世界很多舊製程的東西,像 switch/router/基地台等等2
2012第一次去杭州,那時候搭的計程車是BYD電動車,整台車晃的不行 破銅爛鐵就像玩具車一樣的搞笑,記憶深刻 2023 BYD已經成為行業巨頭,發表的仰望U8/U9整體完整度超高 馬斯克從嘲笑,變成必須正視BYD這個對手,特斯拉被逼的必須跟BYD一起內卷 回過頭,不可否認晶片這玩意的護城河相當高,但也不是絕對跨不過去2
2000~2005 台灣的科技業普普 聯發科賺完白牌後一副要溜滑梯往下的樣子,台GG就是中鋼化的代名詞 2007之後剛好安著手機蘋果手機劃時代的革命產品吃了十幾年 其實也快要吃完了,又好死不死中美貿易戰,銜接上去,之後AI銜接上去 台灣的科技業運氣整個好運到爆膨。5
中國那機器是乾式的,大概是做28nm。 只是DUV曝光機的中階水準。 而且這台機器是否為全國產,是否能真正商業化,都還不知道。 這台機器和周邊設備的適配性還不知道。畢竟原來機器全是配合ASML 的 用這台機器做良率會下降嗎?
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Re: [新聞] 傳中芯國際悄悄出貨 7 奈米晶片,還將不是聽說使用雙重曝光的方式可以撐到7nm? 但好像成本會比較高 如果可以 中國不一定要使用asml機台阿 用nikon DUV應該也可以做到,Nikon最新的機台是DUV immersion 28nm。 美國Intel不是一堆nikon的黃光機? 之前nikon 黃光機的營收最大來自intel 個人猜測如果日本可以support ,加上中國一堆自產的蝕刻,薄膜機台,要達成先進製程晶片技術好像也不無可能?11
[討論] 我不看好中國未來的晶片發展現在晶片的迭代速度的確變慢,但問題是中國受到美國嚴重的制裁,完全沒有辦法發展先進 製程。 反而被台積電越拉越開。 成熟製成的利潤低很多,而且台積電、三星、聯電、羅德方格也都會做! 中芯國際的成熟製程是無法跟台積電競爭的!台積電早就量產過很久了。8
[討論] 日廠有28nm製程以上的技術,何必求台積日本半導體大廠,瑞薩RENESAS有28nm以上晶圓製程技術 在不久前,全球晶圓生產供應鏈吃緊的時候 日本企業(汽車製造廠)曾拜託台積,幫忙加緊製造車用晶片 但是從前80年代日本國內的半導體產業早已打下製程生產的基礎 以車用晶片來說,設計上還是以成熟製程為主9
Re: [新聞] 又被美國逼!ASML將不再維修大陸DUV 中工信部公布的那個曝光機,從他參數來看就知道是成熟製程 還是乾式曝光機 工信部的規格是這樣 2.1.6的規格比較好,裡面的套刻是指overlay,不是能做到什麼等級的製程4
Re: [討論] 華為新手機mate 60 pro水準如何?我覺得中芯國際用duv 曝光機的極限就是7奈米了。 大概就是台積電第一代7奈米的水準吧! 這種水準現在還要賣30000元台幣,這不合理。 只是讓華為續命而已,海思設計能力也沒增加,還是只停留在5奈米。 我猜也不是用中國的EDA ,只是之前買的EDA 繼續用而已。本來就可以設計到5奈米。2
[問卦] 用電子束曝光能做到幾nm如題 台積電先進製程已經朝等效2nm前進 用的是EUV的曝光機 如果用波長更短的電子束來做晶片 不考慮成本問題2
Re: [新聞] 中國實現國產DUV曝光機 可生產8奈米及以標題就錯了 規格寫套刻overlay 8nm 其實是14-28nm製程的水準 肯定說不上先進 但是至少不是完全沒有
爆
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